La tecnología de limpieza láser utiliza pulsos láser de alta frecuencia y alta energía para irradiar la superficie de la pieza de trabajo. La capa de recubrimiento puede absorber instantáneamente la energía láser enfocada, de modo que las manchas de aceite, óxido o recubrimientos en la superficie se pueden evaporar o pelar instantáneamente, y las uniones de la superficie o los recubrimientos de la superficie se pueden eliminar de manera efectiva a alta velocidad. Elláserlimpieza El método y el pulso láser con un tiempo de acción corto no dañarán el sustrato metálico bajo los parámetros apropiados.

Principio: El proceso de limpieza del láser Nd:YAG pulsado se basa en las características del pulso de luz generado por el láser, basado en la reacción fotofísica causada por la interacción entre el haz de alta intensidad, el láser de pulso corto y la capa contaminante. .

Los principios físicos se pueden resumir de la siguiente manera:

1.El haz emitido por el láser es absorbido por la capa contaminante de la superficie a tratar;

2.La absorción de gran energía forma un plasma en rápida expansión (un gas inestable altamente ionizado), que produce ondas de choque;

3.La onda de choque convierte los contaminantes en fragmentos y se elimina;

4.El ancho del pulso de luz debe ser lo suficientemente corto para evitar la acumulación de calor que dañe la superficie a procesar;

5. Los experimentos muestran que cuando hay óxidos en la superficie del metal, se genera plasma en la superficie del metal.

El plasma solo se genera cuando la densidad de energía es superior al umbral, lo que depende de la capa de contaminación o de óxido que se elimine. Este efecto de umbral es muy importante para una limpieza eficaz y al mismo tiempo garantizar la seguridad del material base. Existe un segundo umbral para la aparición de plasma. Si la densidad de energía excede este umbral, el material base será destruido. Para realizar una limpieza eficaz bajo la premisa de garantizar la seguridad del material base, los parámetros del láser deben ajustarse según la situación para que la densidad de energía del pulso de luz esté estrictamente entre los dos umbrales.

Cada pulso láser elimina un cierto espesor de capa de contaminación. Si la capa de contaminación es relativamente gruesa, se requieren múltiples pulsos para la limpieza. La cantidad de pulsos necesarios para limpiar la superficie depende del grado de contaminación de la superficie. Un resultado importante producido por los dos umbrales es el autocontrol de la limpieza. El pulso de luz cuya densidad de energía es superior al primer umbral mantendrá alejados los contaminantes hasta que llegue al material base. Sin embargo, debido a que su densidad de energía es inferior al umbral de destrucción del material base, la base no resultará dañada.

Los dispositivos Nd:YAG se han utilizado ampliamente en el procesamiento de materiales. Además de la perforación con láser, la soldadura, el tratamiento térmico, el marcado, la escritura, el equilibrio dinámico y otras aplicaciones de procesamiento, también se puede utilizar ampliamente en el campo del microprocesamiento. Especialmente el procesamiento de circuitos integrados a gran escala ha demostrado sus ventajas únicas.

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